對于在電鍍硬鉻工藝中添加甲基二磺酸鉀的優(yōu)點(diǎn)，您知道幾個？

（1）陰電流效率高，可達(dá)23-26%。

（2）沉積速度快，是一般普通電鍍鉻的2-3倍。

（3）無陰低電流區(qū)腐蝕。

（4）鍍層平滑，結(jié)晶細(xì)致光亮。

（5）高鍍層硬度，可達(dá)HV900-1150。

（6）微裂紋可達(dá)400-800條/厘米。

（7）鍍層厚度均勻，無高電流區(qū)沉積過厚。

（8）可使用高電流密度，可達(dá)90安培/平方分米。

（9）鍍液維護(hù)簡單，操作容易。

（10）無陽腐蝕，不需采用特殊陽(建議使用含錫量7%-10%鉛錫合金)。

以上十個優(yōu)點(diǎn)的分享，希望大家都能夠熟悉下，有問題或需求都可以聯(lián)系

我們興化市亞泰化工有限公司。

上一個 : 分析鍍鉻層厚度的標(biāo)準(zhǔn)是多少    下一個 : 了解電鍍硬鉻的前后處理不同點(diǎn)